シャープが第5世代IGZOを開発、8K液晶パネル拡充へ。有機ELにも応用 (와치 임프레스)
샤프가 In (인듐), Ga (갈륨), Zn (아연), O (산소)로 구성된 산화물 반도체 TFT인 IGZO 의 새로운 기술을 만들었다고 합니다. 5세대 IGZO 기술이라고 한네요. 기술의 사용은 지난해 발표한 8K TV의 LCD 에 TFT에 사용되었고, 중소형 LCD 디스플레이까지 기술 완료가 되었다고 합니다. 이전 IGZO에 비해 1.5배의 전자이동속도를 가지고 있고 이전 a-Si(비정질실리콘) 와 비교해서는 30배의 전자이동속도를 가지고 있다고 합니다.
이때문에 고밀도 저전력의 대형패널부터 중소형패널까지 제작이 가능하고 당연히 OLED 패널 기술에서도 사용할 수 있다고 합니다. 샤프는 해당 기술을 사용해서 많은 응용을 할 것이라고 합니다. 잘 되었으면 하네요.
샤프가 In (인듐), Ga (갈륨), Zn (아연), O (산소)로 구성된 산화물 반도체 TFT인 IGZO 의 새로운 기술을 만들었다고 합니다. 5세대 IGZO 기술이라고 한네요. 기술의 사용은 지난해 발표한 8K TV의 LCD 에 TFT에 사용되었고, 중소형 LCD 디스플레이까지 기술 완료가 되었다고 합니다. 이전 IGZO에 비해 1.5배의 전자이동속도를 가지고 있고 이전 a-Si(비정질실리콘) 와 비교해서는 30배의 전자이동속도를 가지고 있다고 합니다.
이때문에 고밀도 저전력의 대형패널부터 중소형패널까지 제작이 가능하고 당연히 OLED 패널 기술에서도 사용할 수 있다고 합니다. 샤프는 해당 기술을 사용해서 많은 응용을 할 것이라고 합니다. 잘 되었으면 하네요.
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